Optical Grade LiNbO3 Crystal Wafers-光学级LiNbO3晶体晶圆

光学级LiNbO3晶体晶圆是采用高纯度铌酸锂（LiNbO3）材料，经过精密加工和抛光而制成的高品质光学晶圆。它具有优异的光学性能和压电性能，适用于多种高精度光学和电子应用。

详细描述：
光学级LiNbO3晶体晶圆由优质的LiNbO3材料制成，该材料经过严格的筛选和处理，以确保其高纯度和均匀性。通过先进的加工和抛光技术，这些晶圆获得了极佳的表面质量和光学性能。它们展现出优异的光学透明性、低散射和低吸收特性，同时具有良好的压电效应和稳定性，能够在广泛的光学和电子应用领域中提供高效、稳定的性能。

优点：

优异的光学性能：具有高透光性、低散射和低吸收特性，适用于高精度光学应用。

良好的压电性能：具有出色的压电效应，适用于制造高性能的声表面波（SAW）器件。

高稳定性：在各种环境条件下都表现出良好的稳定性，确保了器件的长期可靠性。

精密的加工和抛光工艺：确保晶圆的表面质量和尺寸精度，满足高精度应用的需求。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学滤波器、光学调制器等关键元件，广泛应用于光纤通信和光网络。

光学存储：利用优异的光学性能，开发高密度光学存储介质。

声表面波（SAW）器件：作为滤波器、振荡器等关键组件，广泛应用于移动通信、传感器技术和射频识别（RFID）等领域。

光学传感：开发高灵敏度的光学传感器，应用于环境监测、生物医学等领域。

基本参数表格：

参数	数值/描述
晶体结构	三方晶系，点群:3m
晶格常数	a=5.148, c=13.863
密度	4. 64g/cm3
熔点	1250℃
居里温度	1142±2℃
硬度	5
介电常数	ε11/ε0=85; ε33/ε0=29.5
热导率	38w/m/k at25℃
热膨胀系数	a1=a2=2×10-6/℃，a3=2.2×10-6/°Cat25℃
压电常数	d22-2.04×10-11C/N, d33=0.6X10-11C/N, d15=7×10-11C/N, d31=-0.1X10-11C/N
弹性常数	C11=2.04×1011 N/m2, C33=2.46x1011N/m2
常规晶向	(0001),(1120),(1010)
晶向公差	± 30 arcmin
常规尺寸	10×10, Φ2″, Φ3”
抛光情况	双面抛光
表面粗糙度	<5Å