20-100μm Ultra Thin LiTaO3 Wafers-20-100微米超薄LiTaO3晶圆

该晶圆由高纯度的LiTaO3材料制成，经过精密的加工和抛光，厚度严格控制在20-100微米之间。它表面光滑，无瑕疵，具有出色的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还具有良好的电学性能和机械强度，适用于各种高精度的光学和电子应用。

优点：超薄设计优异的光学性能良好的电学性高机械强度

应用领域：在高频电子电路和微波器件中作为基板或谐振器，利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的传感器，作为光学存储介质的基板，用于高密度数据存储。

这是一种厚度在20-100微米之间的超薄LiTaO3晶圆，具有优异的光学、电学和机械性能。

详细描述：
该晶圆由高纯度的LiTaO3材料制成，经过精密的加工和抛光，厚度严格控制在20-100微米之间。它表面光滑，无瑕疵，具有出色的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还具有良好的电学性能和机械强度，适用于各种高精度的光学和电子应用。

优点：

超薄设计：厚度仅20-100微米，适用于需要小型化和轻量化的应用。

优异的光学性能：具有高透光性和低光学损耗，适用于光学通信和光学存储等领域。

良好的电学性能：适用于高频电子和微波应用领域。

高机械强度：尽管厚度超薄，但仍保持良好的机械强度和稳定性。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学滤波器等元件，用于光纤通信和光网络。

高频电子：在高频电子电路和微波器件中作为基板或谐振器。

传感器技术：利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的传感器。

光学存储：作为光学存储介质的基板，用于高密度数据存储。

基本参数表格：