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该晶圆由高纯度的LiTaO3材料制成，经过精密的加工和抛光，厚度严格控制在20-100微米之间。它表面光滑，无瑕疵，具有出色的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还具有良好的电学性能和机械强度，适用于各种高精度的光学和电子应用。
优点：超薄设计 优异的光学性能 良好的电学性 高机械强度
应用领域：在高频电子电路和微波器件中作为基板或谐振器，利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的传感器，作为光学存储介质的基板，用于高密度数据存储。
该复合结构由多层材料组成，包括LTOI、LNOI和石英，这些材料都被加工成超薄形态，并精确地堆叠在硅基底上。每一层的厚度都严格控制在5-50微米的范围内，以确保结构的整体性能和稳定性。这种复合结构结合了各种材料的优点，如高光学质量、优异的机械性能和良好的热稳定性。
优点：高光学质量 优异的机械性能 良好的热稳定性 可定制性
应用领域：作为光波导、光学滤波器等关键元件，用于光纤通信和光网络，利用复合结构的光学特性，开发高灵敏度的光学传感器，用于环境监测、生物医学等领域。
该薄膜由高纯度的LiNbO3材料制成，经过先进的加工技术，厚度精确控制在300-900纳米范围内。其表面质量高，光滑且无瑕疵，具有优异的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还表现出良好的电学性能和机械强度，使得它在光学、电子和微电子领域具有广泛的应用潜力。
优点：超薄设计 优异的光学性能 良好的电学性能 高机械强度
应用领域：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测，利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器。
该薄膜由高纯度的LiTaO3材料制成，经过精密的加工技术，厚度严格控制在300-900纳米之间。其表面质量极高，光滑且无瑕疵，展现出卓越的光学透明度和极低的光学损耗。同时，它还具备出色的电学性能和机械强度，使得它在光学通信、电子器件和微电子领域具有广泛的应用潜力。
优点：超薄设计 优异的光学性能 出色的电学性能 高机械强度
应用领域：利用其卓越的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器，应用于环境监测、生物医学，作为光学存储介质的薄膜层，用于实现高密度数据存储。