锑化镓(GaSb)-薄膜衬底
薄膜衬底GaSb单晶基片是一种高性能半导体材料,以其与多种化合物的晶格匹配性、宽光谱带隙(0.8~4.3um)、高迁移率以及优良的物理性能而著称,广泛应用于红外探测、激光器等光电子器件制造中。
主要优点:晶格匹配性,宽光谱范围的带隙,较高的晶格限制迁移率,可定制性,优良的物理性能,良好的导热性能,多样化的掺杂选择。
应用领域:制作光谱范围在2~5μm的光电子器件,适用于制备中长波红外探测器材料,制备热光伏电池,以及大功率激光器等的多量子阱材料等。
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薄膜衬底GaSb单晶基片是一种高性能半导体材料,以其与多种化合物的晶格匹配性、宽光谱带隙(0.8~4.3um)、高迁移率以及优良的物理性能而著称,广泛应用于红外探测、激光器等光电子器件制造中。
主要优点:晶格匹配性,宽光谱范围的带隙,较高的晶格限制迁移率,可定制性,优良的物理性能,良好的导热性能,多样化的掺杂选择。
应用领域:制作光谱范围在2~5μm的光电子器件,适用于制备中长波红外探测器材料,制备热光伏电池,以及大功率激光器等的多量子阱材料等。