氮化镓(GaN)-薄膜衬底
薄膜衬底GaN是一种高性能的半导体材料,以其宽禁带、高电子迁移率、耐高温和耐辐射等特性,在高频、高功率及极端环境下显示出色性能。它被广泛应用于LED照明、5G通信、电力电子及航空航天等领域。
主要优点:优异的电子特性、高频特性、高温特性、高功率特性、较好的抗辐照能力等。
应用领域:光电子器件、射频和微波电子器件、功率器件、高温大功率器件等领域。
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薄膜衬底GaN是一种高性能的半导体材料,以其宽禁带、高电子迁移率、耐高温和耐辐射等特性,在高频、高功率及极端环境下显示出色性能。它被广泛应用于LED照明、5G通信、电力电子及航空航天等领域。
主要优点:优异的电子特性、高频特性、高温特性、高功率特性、较好的抗辐照能力等。
应用领域:光电子器件、射频和微波电子器件、功率器件、高温大功率器件等领域。