该薄膜由高纯度的LiNbO3材料制成，经过先进的加工技术，厚度精确控制在300-900纳米范围内。其表面质量高，光滑且无瑕疵，具有优异的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还表现出良好的电学性能和机械强度，使得它在光学、电子和微电子领域具有广泛的应用潜力。

优点：超薄设计 优异的光学性能 良好的电学性能 高机械强度

应用领域：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测，利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器。