磷化铟(InP)-薄膜衬底
InP单晶是一种重要的化合物半导体材料,由磷(P)和铟(In)组成,化学分子式为InP。它具有闪锌矿型结构,为复式晶格,晶格常数为0.58688nm。InP单晶具有高电子迁移率、高电光转换效率、良好的导热性以及强抗辐射能力等特点,使其在光电子技术和微波技术领域有广泛应用。InP单晶的主要应用领域包括光通信、高频器件、微波电路以及太阳能动力技术等。作为薄膜衬底材料,InP单晶在制备高性能电子器件方面表现出色。
主要优点:高电光转换效率,高电子迁移率,高工作温度,强抗辐射能力,良好的导热性,广泛的应用领域,,优异的材料性能。
应用领域:InP单晶非常适合于高频器件,InP单晶也被应用于太阳能动力技术,InP单晶还被应用于其他高科技领域,如光电子集成电路、量子计算、光电传感器等。