5-50 μm LTOI, LNOI, Quartz on Si-5-50微米LTOI、LNOI、石英/硅复合结构

该复合结构由多层材料组成,包括LTOI、LNOI和石英,这些材料都被加工成超薄形态,并精确地堆叠在硅基底上。每一层的厚度都严格控制在5-50微米的范围内,以确保结构的整体性能和稳定性。这种复合结构结合了各种材料的优点,如高光学质量、优异的机械性能和良好的热稳定性。

优点:高光学质量 优异的机械性能 良好的热稳定性 可定制性

应用领域:作为光波导、光学滤波器等关键元件,用于光纤通信和光网络,利用复合结构的光学特性,开发高灵敏度的光学传感器,用于环境监测、生物医学等领域。

这是一种由超薄LTOI(LiTaO3)、LNOI(LiNbO3)和石英层堆叠在硅基底上构成的复合结构,厚度范围在5-50微米之间。

详细描述
该复合结构由多层材料组成,包括LTOI、LNOI和石英,这些材料都被加工成超薄形态,并精确地堆叠在硅基底上。每一层的厚度都严格控制在5-50微米的范围内,以确保结构的整体性能和稳定性。这种复合结构结合了各种材料的优点,如高光学质量、优异的机械性能和良好的热稳定性。

优点

高光学质量:LTOI、LNOI和石英都是优秀的光学材料,具有出色的透光性和低光学损耗。

优异的机械性能:硅基底提供了良好的机械支撑,使得复合结构具有出色的稳定性和耐久性。

良好的热稳定性:该复合结构能够在较宽的温度范围内保持稳定的性能。

可定制性:通过调整各层的厚度和组合,可以优化复合结构的光学、机械和热性能,以满足特定的应用需求。

应用领域

光学通信:作为光波导、光学滤波器等关键元件,用于光纤通信和光网络。

集成光学:在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构,用于实现光信号的传输、处理和检测。

传感器技术:利用复合结构的光学特性,开发高灵敏度的光学传感器,用于环境监测、生物医学等领域。

光学存储和显示:作为光学存储介质和显示技术的核心组件,用于高密度数据存储和高清显示。

基本参数表格

参数 描述
结构组成 LTOI、LNOI、石英/硅复合结构
厚度范围 5-50微米
光学质量 高透光性、低光学损耗
机械性能 稳定性好、耐久性强
热稳定性 宽温度范围内性能稳定
可定制性 可调整各层厚度和组合
主要应用领域 光学通信、集成光学、传感器技术、光学存储和显示