LNOI- Ultra-thin LiNbO3 film (300-900nm)-LNOI-超薄LiNbO3薄膜（300-900nm）

该薄膜由高纯度的LiNbO3材料制成，经过先进的加工技术，厚度精确控制在300-900纳米范围内。其表面质量高，光滑且无瑕疵，具有优异的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还表现出良好的电学性能和机械强度，使得它在光学、电子和微电子领域具有广泛的应用潜力。

优点：超薄设计优异的光学性能良好的电学性能高机械强度

应用领域：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测，利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器。

LNOI-超薄LiNbO3薄膜是一种厚度在300-900纳米之间的铌酸锂（LiNbO3）薄膜，具有出色的光学、电学和机械性能，适用于多种高精度应用。

详细描述：
该薄膜由高纯度的LiNbO3材料制成，经过先进的加工技术，厚度精确控制在300-900纳米范围内。其表面质量高，光滑且无瑕疵，具有优异的光学透明度和低的光学损耗。同时，它还表现出良好的电学性能和机械强度，使得它在光学、电子和微电子领域具有广泛的应用潜力。

优点：

超薄设计：厚度仅300-900纳米，适用于需要小型化和集成化的应用。

优异的光学性能：具有高透光性和低光学损耗，适用于光学通信和光学存储等领域。

良好的电学性能：适用于高频电子和微电子应用领域。

高机械强度：尽管厚度超薄，但仍保持良好的机械强度和稳定性，易于加工和处理。

应用领域：

光学通信：作为光波导、光学调制器等元件，用于光纤通信和光网络。

集成光学：在集成光学芯片和光电子集成电路中作为基本结构，用于实现光信号的传输、处理和检测。

传感器技术：利用其优异的电学和光学性能，开发高灵敏度的光学传感器。

光学存储：作为光学存储介质的薄膜层，用于高密度数据存储。

基本参数表格：