镓酸钕（NdGaO3）-薄膜衬底

NdGaO3（镓酸钕）是一种优质薄膜衬底材料，以其与高温超导体（如YBCO）的低晶格失配、无结构相变及优异的物理稳定性而著称。它常用于外延生长高质量的高温超导和磁性材料薄膜，并在电子器件、超导技术及生物医学等领域有广泛应用。

化学组成与结构

物理性质

薄膜衬底NdGaO3（镓酸钕）的主要优点可以归纳如下：

晶格失配小：

NdGaO3与YBCO（钇钡铜氧）等高温超导体之间的晶格失配非常小，仅为~0.27%。这种小的晶格失配有助于在NdGaO3衬底上外延生长出质量更高的薄膜。

无结构相变：在一定温度范围内，NdGaO3没有结构相变，这确保了其在高温或温度变化条件下的稳定性。

外延生长质量高：

由于上述的晶格失配小和无结构相变的特性，NdGaO3成为高温超导体（如YBCO）和磁性材料外延薄膜生长的理想衬底。在这些衬底上，可以外延生长出质量良好的薄膜。

物理性质稳定：

NdGaO3的熔点高达1600℃，密度为57g/cm³，介电常数为25，这些物理性质显示了其良好的稳定性和适用性。

精确的晶向和晶面定向：

NdGaO3的晶向和晶面定向精度较高，晶向可选<100>、<110>、<111>等，晶面定向精度为±0.5°，边缘定向精度可达1°以内（特殊要求）。这种高精度的晶向和晶面定向对于外延薄膜的生长和性能至关重要。

多种尺寸和厚度选择：

NdGaO3提供多种尺寸和厚度选择，如10×3, 10×5, 10×10, 15×15, 20×15, 20×20等尺寸，厚度可选5mm, 1.0mm等。这种灵活性使其能够满足不同应用的需求。

抛光选项：

NdGaO3提供单面或双面抛光选项，以满足不同应用对表面光洁度的要求。

薄膜衬底NdGaO3（镓酸钕）的应用领域主要集中在高温超导和磁性材料领域，其应用详情如下：

高温超导薄膜：

NdGaO3由于其与YBCO（钇钡铜氧）等高温超导体之间极小的晶格失配（~0.27%），被广泛用作高温超导体外延薄膜生长的衬底。这种小的晶格失配有助于生长出质量高、性能稳定的超导薄膜。

中科瑞晶等公司提供的NdGaO3衬底材料，可以满足不同客户的需求，为高温超导体的研究和应用提供了有力支持。

磁性材料薄膜：

NdGaO3同样适用于磁性材料外延薄膜的生长。由于其优异的物理性能和稳定性，NdGaO3衬底能够为磁性材料薄膜提供良好的生长环境，从而制备出性能优异的磁性材料。

外延薄膜衬底：

NdGaO3不仅作为高温超导和磁性材料外延薄膜的衬底，还因其独特的物理和化学性质，在制备其他类型的外延薄膜时也具有重要的应用价值。

技术参数与规格：

NdGaO3单晶基片的技术参数包括生长方法（如提拉法）、晶体结构（正交）、晶格常数（a=5.43Å, b=5.50Å, c=7.71Å）、密度（57g/cm³）、熔点（1600℃）和介电常数（25Mohs）等。

产品规格包括多种晶向选择（如<001>、<110>、<100>±0.5º）、尺寸（如5mm、10x5x0.5mm、5x5x0.5mm等）和抛光选项（单面抛光，表面粗糙度Surface roughness(Ra):<=5A）。

镓酸钕（NdGaO3）的基本参数表格如下：

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