Optical Grade LiTaO3 Crystal Wafers-光学级LiTaO3晶体晶圆

光学级LiTaO3晶体晶圆由优质的LiTaO3材料制成,该材料经过严格的筛选和处理,以确保其高纯度和晶体结构的完整性。通过先进的加工和抛光技术,这些晶圆获得了极佳的表面质量和光学性能。它们展现出优异的光学透明性、低散射和低吸收特性,同时具有良好的压电效应和稳定性。这使得光学级LiTaO3晶体晶圆在光学通信、光学存储、声表面波(SAW)器件以及光学传感等领域具有广泛的应用潜力。

优点:优异的光学性能 良好的压电性能 高稳定性 精密的加工和抛光工艺

应用领域:作为光波导、光学滤波器、光学调制器等关键元件,应用于光纤通信和光网络,开发高灵敏度的光学传感器,应用于环境监测、生物医学等领域。

光学级LiTaO3晶体晶圆是采用高纯度钽酸锂(LiTaO3)材料,经过精密加工和抛光而制成的高品质光学晶圆。它具有优异的光学性能和压电性能,特别适用于高精度光学和电子应用。

详细描述
光学级LiTaO3晶体晶圆由优质的LiTaO3材料制成,该材料经过严格的筛选和处理,以确保其高纯度和晶体结构的完整性。通过先进的加工和抛光技术,这些晶圆获得了极佳的表面质量和光学性能。它们展现出优异的光学透明性、低散射和低吸收特性,同时具有良好的压电效应和稳定性。这使得光学级LiTaO3晶体晶圆在光学通信、光学存储、声表面波(SAW)器件以及光学传感等领域具有广泛的应用潜力。

优点

优异的光学性能:具有高透光性、低散射和低吸收特性,确保光学应用的高性能。

良好的压电性能:具有出色的压电效应,适用于制造高性能的SAW器件。

高稳定性:在各种环境条件下都表现出良好的稳定性,保证了器件的长期可靠性。

精密的加工和抛光工艺:确保晶圆的表面质量和尺寸精度,满足高精度应用的需求。

应用领域

光学通信:作为光波导、光学滤波器、光学调制器等关键元件,应用于光纤通信和光网络。

光学存储:利用优异的光学性能,开发高密度光学存储介质。

SAW器件:作为滤波器、振荡器等关键组件,广泛应用于移动通信、传感器技术和射频识别(RFID)等领域。

光学传感:开发高灵敏度的光学传感器,应用于环境监测、生物医学等领域。

基本参数表格

参数 数值/描述
材料纯度 >99.995%
晶体结构 斜六面体
晶格常数 a=5.154Å c=13.783Å
熔点(℃) 1650
居里温度 610℃
密度 7.45 (g/cm3)
硬度 5.5-6(mohs)
颜色 无色
折射率 no=2.176 ne=2.180 (633nm)
透过范围 0.4~5.0mm
电阻系数 1015wm
界电常数 es11/e0:39~43 es33/e0:42~43  et11/e0:51~54 et33/e0:43~46
热膨胀系数 aa=1.61×10-6/k,ac=4.1×10-6/k
LTB 晶体棒   X、Y、Z±1°
LTW 外延抛光片       X、Y、Z或Y旋转带或不带定位边

双抛 Ra<10A

包装 100级洁净袋,1000级超净室